为进一步夯实员工专业技术基础，持续推动内部人才成长，AEMD平台于5月28日在E谷悟课剧场举办“强基·提效·创未来——2025年度AEMD平台人员综合能力进阶系列沙龙”第三讲。本次沙龙由AEMD平台主任程秀兰主讲，主题聚焦半导体领域的重要核心工艺——干法刻蚀，吸引平台全体老师积极参加，现场学习氛围浓厚。

程秀兰首先从产业视角出发，指出干法刻蚀作为半导体微纳制造工艺链中的关键环节，在晶圆图形转移、器件结构构建和纳米级精度加工中扮演着不可替代的角色。她提到，随着芯片尺寸持续缩小与器件结构复杂化，对刻蚀技术提出了更高的要求，而干法刻蚀凭借其高各向异性、良好选择性及工艺灵活性，已成为先进制程的核心支撑工艺之一。

程秀兰系统阐述了干法刻蚀工艺中的原理及核心参数体系。她从刻蚀反应的基本机制切入，深度解析了等离子体生成、反应物种类、刻蚀选择性等关键要素，为大家构建起清晰的技术框架；同时结合实际案例，分析了参数设定中的典型问题及优化思路。在干法刻蚀的实际应用部分，程秀兰重点讲解了逻辑器件图形转移、深硅刻蚀、MEMS结构加工等经典场景，展示了干法刻蚀在高精度制造中的关键作用。最后，她还前瞻性地探讨了当前行业前沿的发展趋势，为大家拓展了技术视野。

本次沙龙聚焦技术核心，进一步增强了平台老师们对关键工艺技术的理解与掌握。AEMD平台将持续开展“强基·提效·创未来”系列活动，着力构建全员成长型平台，打造高素质、强技能、重实干的专业技术团队。